説明

気相分子が壁面に衝突して付着（吸着）する過程を扱うモデル。分子種ごとに「スティッキング係数」と呼ばれる確率（衝突した分子のうち実際に表面に留まる割合）を設定し、壁面への吸着フラックスを計算する。これは表面反応の出発段階であり、触媒反応やCVDプロセスなどで表面に物質が捕捉される効率を決定する。CFDでは境界条件として用いられ、吸着後の表面反応速度計算や表面析出量の評価に不可欠な要素である。